多层商标薄膜-多层薄膜材料设计？(6)
时间:2022-11-01 21:33
上述特殊用途的光学器件，都需要工作光谱范围很宽的宽带增透膜来改善光学元 件成像质量，尤其是在微光系统、夜视系统、CCD和大气辐射系统中。 3论文研究的内容 本论文研究的是用于大气辐射系统光学元件的400一1IOOnm宽带增透膜，借助计 算机对所设计的膜系进行优化，通过反复实验，完成减反射薄膜制备工艺参数的寻优， 最终获得能够满足课题要求的薄膜系统。 论文主要包括四部分内容。第一，薄膜特性计算理论、双有效界面法原理及多层 介质膜弱吸收的计算原理的介绍。第二，减反射膜设计基础，镀膜材料的选择，利用 TFC膜系设计软件对设计膜系进行优化，实现可见光波段及近红外波段内的宽带减反 射。第三，镀膜机工作原理及膜层形成过程及光控晶控原理，镀膜操作过程。第四， 在实际镀膜过程中完成了寻找制备工艺参数的工作，对基片温度、工作气压、氧 气含量等成膜工艺参数对光学性能的影响进行分析，并在的工艺参数下，完成薄 膜的制备。进行样品的性能测试，分析理论设计膜系与实际制备膜系光学性能差异的 原因。 由于实验室分光光度计没有配置测基片反射率的配件，所以本论文试验结果以实 验基片透过率为依据。 本实验采用的设备是南光700型镀膜机，利用电子束蒸发离子辅助的方式来得到 较为牢固致密的膜层的。离子辅助的作用是在蒸镀前清洁基片表面、蒸镀过程中使膜 层结构更为牢固致密。这样可以减少由吸收、散射等损耗带来的膜面透过率和增透带 带宽的下降。 等等。 多层薄膜材料设计？ 摘要 为了满足大气辐统中的光学元件用要求，可见光及近红外波段范 具有高透过率，根据双有效界面法设计原理配合TFC膜系软件设计膜系，采用离子辅 助沉积，电子束真空镀膜的方法，通过对真空度、基底温度、Ti口2膜料蒸发速率等工 艺参数的调整和膜层厚度的监控方法的改进，采用A12O。，峋凡，TIOZ，5102四种镀膜 材料，在K，基底上制备了400一1100nm宽带增透膜。并用分光光度计测量了薄膜的透 过率，得到透过率光谱曲线。所镀膜层在垂直入射时，400一1100纳米波段平均反射率 小于1.5%。对制备的增透膜进行了各种环境测试，环境测试结果显示，膜层的各项 指标都达到了设计要求。 关键词:光学薄膜;大气辐射系统;宽带增透膜;离子辅助; ABSTRACT InordertomeettheoPtiealinstruments’oPeratingrequirementsofatmosPheriC radiationsystems，namely，itmustbehightransmittaneeduringvisibleandnear一infrared band，weadoPtelectroniebeamingvacuumdePositingmethodwiththeaidofionassistant  |